Плазмотег
English
Главная
Публикации
Патенты
Контактная информация

Низкоэнергетический ионный источник плазмы


Ионный источник используется:
для нанесения оптических покрытий методом ионного ассистирования;
ионной очистки поверхности;
при осаждении алмазоподобных покрытий методом химического вакуумного испарения;
для получения нитридов, карбидов и т.д. (реакционное осаждение).


Технические характеристики:
анодный ток0,5… 5 A
напряжение40… 120 В
ток термокатода15… 20 A
ток соленоида200… 600 мА
рабочее давление8•10-3… 1,5•10-1 Па
форма ионного источникаконический
технологический газаргон, кислород, азот, углеводороды
Главная Разработки Публикации Патенты Контактная информация О нас